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    1月15日,星期六。</p>

    合痩市。</p>

    乘坐高铁的卫明,来到了这座城市。</p>

    为此他特意跟樊姐请了两天假,提前处理了三十多名结石病人,合计腾出三天时间,就为了解决掉一个问题。</p>

    人才!</p>

    高端光刻机的研发人才。</p>

    而且卫明已经有了明确的招募目标,他认为的最合适最优秀的人才,就在合瘦市这边。</p>

    此人名叫蒲伟才。</p>

    卫明是在网上查找相关信息的过程中,看到了多条关于此人的新闻。</p>

    也注意到此人带领的研发团队,取得的跟光刻机相关的多项研究成果,了解了此人的牛叉之处。</p>

    因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识,了解到了EUV光刻机的几大核心技术。</p>

    一个,组装。</p>

    光刻机最重要的技术之一是组装,就是把所有的元件组装起来,然后使分辨率达到最高,同时套刻精度达到最佳。</p>

    比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度,得有合适的冷却方法,精准的测温传感器。一台光刻机中,包含十几个分系统,几万个机械件,数百个的传感器,每一个都要稳定。</p>

    二,控制。</p>

    光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。光刻的原理就像在米粒大小的面积上,雕刻纳米级大小的文字,对于误差的要求可想而知。</p>

    比如光刻机里有2个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片。两者需始终同步,误差在2纳米以下。两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多。</p>

    三,光源。</p>

    制造EUV需要极高的能量。EUV能被空气吸收,所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是,EUV还能被透镜吸收,所以只能用十几次面透镜,通过不断反射将光源集中。</p>

    每反射1次,EUV的能量就会损失3成。十几次反射后,到达晶圆的光线理论上只剩下2%。从能连赶上看,寒国某半导体企业曾经说过,极紫外光EUV的能源转换效率只有0.02%左右。</p>

    四、镜头。</p>

    光刻机的中心镜头对于镜头要求较高,位于光刻机中心的镜头,由20多块锅底大的镜片串联组成,需要高纯度透光以及高抛光。</p>

    目前,符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造,先进光刻机镜头全部由手工打磨而成,能够达到这一标准的公司并不多,全世界范围内也就一两家,全部是西方老牌公司。</p>

    这四大类的核心技术中。</p>

    卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队,在短短的十年时间里,一共攻克了两项。</p>

    分别是双工台技术与光源技术。</p>

    他带领团队研发出的高精密双工台,控制精度也达到了2纳米,跟国外最先进水平,达到了同等先进的程度,抹平了技术差距,可以说是打成了平手。</p>

    在光源技术方面,蒲伟才也是只用了短短几年时间,利用国内在激光技术领域的领先地位,以及材料方面的优势,开发出的EUV光源系统,最终能源利用率达到了5%。</p>

    较之于艾思迈EUV光刻机的2%,能源利用率提升了一倍还多!</p>

    这意味着光刻机在使用的过程中,能节省一半多的电,减少产生大量的热量,系统的稳定性能提高不少。</p>

    也就是说,在EUV光刻机领域,蒲伟才这位牛人,以及他带领的技术团队,四大核心技术中,他们攻破了两个。</p>

    剩下的两大核心技术中。</p>

    组装技术方面,魔都微电子公司近些年已取得了巨大突破,具备了将10万多个零件组合成一台光刻机,并让其长期稳定工作下去的能力。</p>

    唯独镜头这块,国内还迟迟未能突破,因为艾思迈公司EUV光刻机所用的镜头,并不是机器制造出来的,而是镜头制造公司的工程师们,用20年时间,花几十万个小时精心打磨出来的,是工匠精神做到极致的产物!</p>

    华国想要追赶,却几乎找不到这种能耐心坐下来打磨几十年,能够把一面镜片,打磨到相当于一个蓝星大小的物体上,顶多只

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